Грунтовка глубокого проникновения PRIMER C-м

Для поверхностей минерального типа компания LITOKOL предлагает специально разработанный грунтовочный состав PRIMER C-м. Его рекомендовано использовать совместно с клеевыми смесями на цементной основе, самовыравнивающими составами.

Грунтовка PRIMER C-м представляет собой водную дисперсию акриловых смол и используется только для выполнения работ внутри помещений. Это экологически безвредный продукт, в его составе отсутствуют токсичные и аллергенные вещества. Состав сертифицирован и имеет все необходимые санитарно-гигиенические заключения. Мельчайшие полимерные частицы пропитывают верхний слой основания, упрочняют его и минимизируют пылеобразование. Грунтовка глубокого проникновения PRIMER C-м снижает поглощение влаги материалом поверхности, что усиливает адгезию основания и предотвращает растрескивание стяжки или выравнивающего покрытия.

Этот грунтовочный состав используется для обработки таких поверхностей, как:

• стяжки и штукатурки из цементно-песчаных и гипсовых составов;
• плотный бетон;

• несущие стены и перегородки из кирпича, пено- и газобетона, шлакоблоков;
• ангидридные стяжки;

• облицовка из кафеля, мозаики, керамогранита, натурального камня.

PRIMER C-м рекомендуется использовать для следующего вида работ:

• Подготовка поверхностей к укладке кафельной, мозаичной и керамогранитной облицовки, плитки из натурального камня

Применение грунтовочного состава перед выполнением облицовки снижает расход клея и улучшает его сцепление с поверхностью. Слой грунтовки служит надежным препятствием для непосредственного контакта и химической реакции между гипсовой поверхностью и цементными смесями.

• Упрочнение и обеспыливание оснований перед нанесением самовыравнивающихся составов

Обработка пола грунтовкой PRIMER C-м способствует повышению адгезии и лучшей растекаемости самовыравнивающего состава. За счет снижения впитываемости предотвращается преждевременное высыхание и растрескивание смеси. Для достижения лучшего результата рекомендуется наносить грунтовочный состав в два слоя.

Расход 100-300 г/м² в зависимости от впитывающей способности основания.